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離子束加工案列
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離子束拋光是通過面形誤差進行確定性修形拋光的一種工藝,光學元器件面形誤差在波長范圍內應用離子束加工,在技術上是合理的。在一次迭代拋光工序后,我們可獲得去除效率,之后的迭代加工會更加精準,直到達到客戶最終理想要求。迭代次數由表面的面形誤差決定,低頻誤差可通過大束徑離子束快速修正。中高頻誤差則選用更小束徑離子束修正。

 

離子束加工案列

 

1、材料:石英

   工件特征:平面,直徑70mm。

   客戶要求:rms≤λ/100

   結論:初始面形Rms0.061λ經過一次迭代加工面形收斂至Rms0.007λ,實現rms值提升8倍的改善效率。

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

 

 

 

2、材料:石英

   工件特征:平面,直徑100mm。

   結論:初始面形Rms2.687nm經過一次迭代加工面形收斂至Rms0.95nm,實現rms值提升3倍的改善效率。

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

 


3、材料:單晶硅

   工件特征:平面,直徑140mm。

   客戶要求:rms≤λ/50

   結論:初始面形Rms0.06λ經過一次迭代加工面形收斂至Rms0.02λ,實現rms值提升3倍的改善效率。

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

 

4、材料:藍寶石

   工件特征:平面,直徑260mm。

   客戶要求:S1、S2面  rms≤λ/25

   結論:初始面形S1:Rms0.265λ經過二次迭代加工面形收斂至Rms0.039λ。

   初始面形S1:Rms0.135λ經過二次迭代加工面形收斂至Rms0.022λ。

 

第一次迭代加工

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

 


第二次迭代加工

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

藍寶石加工照片

離子束拋光, Ion Beam Figuring

離子束拋光, Ion Beam Figuring

   材料:微晶

   客戶要求:rms≤λ/30

   工件特征:非球面,直徑280mm,R值為-1190.62mm,K為-1.248。

   結論:初始面形Rms0.276λ經過三次迭代加工面形收斂至Rms0.029λ。

  

 

加工前后面形變化

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

 

加工過程面形變化

離子束拋光, Ion Beam Figuring 

 


非球面加工照片

離子束拋光, Ion Beam Figuring


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